나노융합기술교육(나노소자공정) 안내

1. 교육 일시 : 2016.12.21.(수) ~ 12.22.(목) (2일)

2. 교육 장소 : 포항공과대학교 나노융합기술원

3. 교육 대상 : 관련학과 학부생 및 대학원생 13명 이내

(신청인원이 초과될 경우, 특성화사업 참여학과의 학부생 우선)

4. 교육 일정 : 대구대 출발(9시) → NINT교육(10시~17시) → 대구대 도착(18시)

(※ 통학버스는 중앙기기원에서 제공)

5. 교육 내용

○ 교육개요

- 반도체 Fabrication 공정인 포토, 에칭, 확산, 박막 공정 이해

- 각 파트의 장비개요 및 작동법 습득

- 전공정 이해를 통한 반도체 생산라인 이해

○ 실습장비

장비명	활용용도
Laser Lithography Sys	포토공정 실습
Atomic Layer Deposition
E-Beam Lithography SysⅠ
E-Beam Lithography SysⅡ
Mask Aligner for NEMS
NEMS Base System
Atomic Layer Deposition	확산공정 실습
UHV-CVD
Sputter - 1
Furnace
E-Beam Evaporator
LP-CVD System	박막공정 실습
PE-CVD-1
Dry Etcher_ICP	에칭공정 실습
Dry Etcher_20nm급
Wet Station_Acid System
CD-SEM
Process Monitoring System
Deep Reactive Ion Etcher